우리나라 중소기업이 세계 최초로 개발한 반도체 세정 기술을 중국에 팔아넘긴 일당이 재판에 넘겨졌다.
1200억원을 받고 핵심기술을 넘긴 이들 때문에 수조 원대 피해가 우려되는 상황이다.
삼성전자 자회사 세메스는 2018년 세계 최초로 ‘초임계 반도체 세정 장비’를 개발해 상용화에 성공했다.
반도체는 조그만 먼지만 묻어도 결함이 생길 수 있는데, 액체와 기체 상태를 넘어선 초임계 상태의 이산화탄소를 이용해 반도체 기판을 씻는 장비를 개발한 것.
기존 방식과 달리 반도체 기판의 손상을 크게 줄일 수 있어 삼성반도체에 독점으로 납품되는 기술이자, 국가핵심기술로도 지정돼 있다.
하지만 개발하자마자 ‘기술 유출’이 시작됐다.
세메스를 퇴직한 연구원 A씨는 다른 회사를 설립한 뒤 기기 제작을 맡은 세메스의 협력 업체 대표 B씨에게 도면을 전송받았다.
이후 이 도면은 브로커를 통해 중국 기업으로 넘어갔다.
이 과정에서 A씨는 장비 한 대당 240억여 원을 받고 이후엔 모든 기술을 중국 측에 넘기겠다는 뒷거래까지 맺은 것으로 드러났다.
B씨는 투자금 등 46억 원, 브로커는 중국합작법인 지분과 현금 등 55억 원을 챙겼다.
일단 표면적 손해는 세메스 사의 연구개발비 350억 원 정도지만, 그 이면의 손해는 천문학적이다.
모회사인 삼성전자의 반도체 생산경쟁력 약화와 국가안보에도 큰 위협이 된다는 점을 감안하면 피해액은 수조 원에 달할 것으로 보인다.
검찰은 이 기술을 중국에 유출한 A씨 등 4명을 구속기소하고 1명은 불구속 기소했다.